高純臭氧提供系統(tǒng)
 

1.工作條件：

工作溫度和濕度：工作溫度低于32攝氏度，對濕度無要求。

電力要求：要求抗振動，抗干擾。

場地要求：需要不大于8平方米的空間。

 

2.  設(shè)備用途：

2.1 擬購的高純臭氧提供系統(tǒng)作為氧化物分子束外延系統(tǒng)和激光分子束外延系統(tǒng)的重要組成部分，用于為氧化物分子束外延系統(tǒng)和激光分子束外延系統(tǒng)提供高活性氧來源。
 

3.  技術(shù)規(guī)格：

3.1 臭氧發(fā)生和存儲系統(tǒng)

3.1.1 配備臭氧發(fā)生器，輸入電壓220V/50Hz。

3.1.2優(yōu)先考慮臭氧發(fā)生裝置單次 很大供氣量大于2g的投標(biāo)。

3.1.3 具有束流控制系統(tǒng)。

3.1.4具有臭氧泄漏檢測系統(tǒng)。

*3.1.5氣路采用耐臭氧材質(zhì)，系統(tǒng)漏率好于1.0E-8 mbar•L/s。

3.1.6優(yōu)先考慮冷卻系統(tǒng)用液氮容器，且?guī)в型敢暣翱诘耐稑?biāo)。

3.1.7優(yōu)先考慮冷凝器內(nèi)置壓力探測器及爆炸監(jiān)測裝置的投標(biāo)。

 

3.2. 臭氧注入系統(tǒng)

*3.2.1與真空設(shè)備生長腔兼容。

*3.2.2臭氧供氣的氣壓范圍：1.0×10-6 Torr ~ 1 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）

*3.2.3臭氧供氣的氣壓調(diào)節(jié)精度：5×10-7 Torr；（主腔體積不大于10L，分子泵與主腔之間配有閥門，分子泵抽速大于300L/s的情況）

3.2.4 定制主腔內(nèi)真空轉(zhuǎn)接配件與閥門

 

3.3 控制系統(tǒng)

3.3.1具有控制系統(tǒng)用于過程控制。

3.3.2控制系統(tǒng)具有人機操作界面，操作方便可靠。

 

4.  產(chǎn)品配置要求：

4.1 高純臭氧提供裝置主體    1臺

4.2 備件

4.2.1  1/2 VCR墊片 10個

4.2.2  1/4 VCR墊片

4.2.3  KF25卡箍及中心圈  2套

4.3 其它附屬設(shè)備  需用戶準(zhǔn)備nXDS10iC或者nXDS6iC抗腐蝕干泵。

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