紫外臭氧清洗優(yōu)點(diǎn)：

1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體

  （CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。

2. 表面潔凈度高，且不會像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。

3. 光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不

    會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

4. 光清洗對物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠

    射入材料表面的極為 細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。

相關(guān)應(yīng)用

■在進(jìn)行薄膜沉積之前先進(jìn)行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。

■清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs芯片

■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器

■蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機(jī)材料

■增強(qiáng)GaAs 和Si氧化物鈍化表面

■增強(qiáng)玻璃的除氣作用

■基片藍(lán)膜去除

■增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性

■基片終測后墨跡清楚

■去除光刻膠

■平板顯示器/液晶顯示器

■去除光刻機(jī)臺上的光刻膠殘留物

■在電路板封裝和打片之前清洗）

■光纖

■增強(qiáng)表面親水特性

■為生物科學(xué)應(yīng)用做清洗和消毒

■光學(xué)透鏡

■其它應(yīng)用

臭氧發(fā)生器

Ozone Generator

臭氧（氧化電位2.7eV）的反應(yīng)活性相當(dāng)強(qiáng)，是一種強(qiáng)氧化劑。在許多新領(lǐng)域的研發(fā)過程中，它逐漸成為不可缺少的元素之一。其中包含化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，大學(xué)以及電子，醫(yī)藥，化學(xué)，生物和醫(yī)學(xué)研究機(jī)構(gòu)。在工業(yè)應(yīng)用的范圍也增加許多。例如半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，環(huán)境研究。飲用水及污水處理，塑料和包裝產(chǎn)業(yè)以及食品加工技術(shù)。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體，氣體和固體有機(jī)物質(zhì)。無論是單一的實(shí)驗(yàn)室或?qū)嶒?yàn)工廠，甚至工業(yè)生產(chǎn)的規(guī)模，由于新的技術(shù)，使生產(chǎn)臭氧不再成為經(jīng)濟(jì)負(fù)擔(dān)。本公司的產(chǎn)品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線，來產(chǎn)生純凈的臭氧。訂購時(shí)，請指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的電源供應(yīng)器。