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Savannah 臭氧發(fā)生器 – 用于研發(fā)的熱力原子層沉積 (ALD)

發(fā)布日期:2022-01-19  瀏覽次數(shù):

Savannah 臭氧發(fā)生器 – 用于研發(fā)的熱力原子層沉積 (ALD)(1)

Veeco 是全球研究和行業(yè)原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng)的先進(jìn)供應(yīng)商,提供可訪問(wèn)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠并具有原子量級(jí)準(zhǔn)確性的綜合服務(wù)和多功能交鑰匙系統(tǒng)。薄膜沉積是我們的專(zhuān)長(zhǎng)。我們的 Savannah? 系列薄膜沉積工具展示了這些能力。

Savannah? 已成為全球大學(xué)參與原子層沉積 (ALD) 并尋找經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且穩(wěn)健平臺(tái)的研究人員的首選系統(tǒng)。在過(guò)去十年中,我們已經(jīng)交付了數(shù)百個(gè)此類(lèi)系統(tǒng)。Savannah? 對(duì)前體的高效使用和節(jié)能功能大幅降低了操作薄膜沉積系統(tǒng)的成本。

主要功能包括:

  • 原位橢圓偏振術(shù)
  • 原位 QCM
  • 自組裝單層
  • 2 秒周期時(shí)間
  • 集成臭氧
  • 低蒸汽壓力沉積
  • 批處理
  • 手套箱集成

Savannah? 配備高速氣動(dòng)脈沖閥,可實(shí)現(xiàn)我們獨(dú)特的 Exposure Mode?,用于超高縱橫比基質(zhì)的薄膜沉積。這種經(jīng)驗(yàn)證的精密薄膜涂層方法可用于沉積橫向比大于 2000:1 的基質(zhì)上的保形、均勻薄膜。Savannah? 有三種配置:S100、S200 和 S300。Savannah? 能夠保持不同尺寸的基質(zhì)(S300 高達(dá) 300mm)。Savannah? 薄膜沉積系統(tǒng)配備加熱前體線和增加 很多 6 條線的選項(xiàng)。Savannah? 能夠處理氣體、液體或固體前體。

Savannah? G2 技術(shù)規(guī)格

基質(zhì)尺寸Savannah S100: 很多 100 mm
Savannah? S200: 很多 200 mm
Savannah? S300: 很多 300 mm
尺寸(寬 x 深 x 高)Savannah S100:585 x 560 x 980 毫米
Savannah? S200:585 x 560 x 980 毫米
Savannah? S300:686 x 560 x 980 毫米
帶有可拆卸面板和可鎖定前體門(mén)的白色粉末涂層的鋼板
操作模式Continuous Mode?(高速)或 Exposure Mode?(超高縱橫比)
功率115 VAC 或 220 VAC,1500 W(不包括泵)
控制LabView?,Windows? 7,Lenovo 筆記本電腦,USB 控制
很大基質(zhì)溫度S100:RT – 400 °C
S200:RT – 350 °C
S300:RT – 350 °C
沉積均勻性(Al2O3) < 1% (1σ)
周期時(shí)間每周期 <2 秒(AL2O3在 200 °C 下)
真空泵Alcatel 2021C2 – 14.6 CFM
兼容性潔凈室級(jí)別 100 兼容
合規(guī)性CE、TUV、FCC
前體輸送系統(tǒng),端口2 線標(biāo)準(zhǔn), 很多 6 條線可用
每條線都適合固體、液體和氣體前體
線可獨(dú)立加熱至 200 °C
前體輸送系統(tǒng),閥門(mén)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)高速原子層沉積 (ALD) 閥,響應(yīng)時(shí)間 10 毫秒
前體氣瓶獨(dú)立加熱 50 ml 不銹鋼氣瓶,更大氣瓶可選
承載器/排氣氣體N2質(zhì)量流量控制,100 SCCM
選項(xiàng)低蒸汽壓力輸送 (LVPD) 系統(tǒng)
臭氧發(fā)生器
用于晶片盒或 3D 物體的圓頂蓋
手套箱接口
原位橢圓偏振術(shù)
原位石英晶體微平衡 (QCM)
自組裝單分子膜 (SAM)
顆粒涂層